G-25X型高精密光刻機

產(chǎn)品介紹：

設(shè)備概述:

本設(shè)備是我公司專門針對各大專院校及科研單位對光刻機的使用特性研發(fā)的一種高精密光刻機，它 主要用于中小規(guī)模集成電路、半導(dǎo)體元器件、光電子器件、聲表面波器件的研制和生產(chǎn)。

主要功能特點

主要技術(shù)指標

1.  設(shè)備能真空吸附5"×5"方形掩板,對版的厚度無特殊要求（1～3mm皆可）。

2.  設(shè)備能適用于Φ100mm圓形基片（或100×100mm方形基片），基片厚度≤5mm,當您的基片厚度≤1mm時，我公司為本機配置標準承片臺（不另計費），當基片厚度＞1mm時，設(shè)備需配置專用承片臺（訂貨時用戶須說明，費用另議）。

3.  照明：

光源：采用GCQ350Z型**壓水銀直流汞燈。

照明范圍：≤ф117mm曝光面積：Φ100mm在Φ100mm范圍內(nèi),曝光不均勻性≤±3%，曝光強度：≥5mw/ cm2（此指標用紫外光源I線365nm測量）。

4.  本設(shè)備采用進口時間繼電器控制氣動快門，動作準確、可靠。

5.  本機為接觸式曝光機，但可實現(xiàn)：

a.  硬接觸曝光：用管道真空來獲得高真空接觸，真空≤-0.05MPa。

b.  軟接觸曝光：接觸壓力可將真空降到-0.02MPa ～ -0.05MPa之間。

c.  微力接觸曝光：小于軟接觸，真空≥-0.02MPa。

6.  曝光分辯率：本設(shè)備硬接觸曝光的分辨度可達1μm以上。

7. 對準：觀察系統(tǒng)為兩個單筒顯微鏡上裝二個CCD攝像頭，通過視屏線連接到顯視屏上。

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