G-43Y6型高精密單面光刻機

產(chǎn)品介紹：

設(shè)備概述:

本設(shè)備是我公司根據(jù)市場需求研發(fā)的產(chǎn)品，通常情況下基片尺寸為：Φ6"，對被光刻基片的外形、厚度要求較低，可對多種材料的基片進行光刻。它特別適用進行一次光刻的產(chǎn)品,可制作聲表面器件、可控硅、小液晶顯示器、傳感器、二極管、園光柵、編碼盤等。按用戶要求可提供圓形承片臺或方形承片臺,不管哪一種承片臺，都能實現(xiàn)“真空密著”曝光,加之光均勻性好，所以大大提高光刻質(zhì)量。

主要構(gòu)成
主要由防震工作臺、高均勻性6"蠅眼曝光頭、氣動系統(tǒng)、電氣控制系統(tǒng)、真空管路系統(tǒng)、直聯(lián)式真空泵及附件箱等組成。

曝光頭及部件圖

主要功能特點

1. 適用范圍廣
  適用于Φ6"以下，厚度5mm以下的各種基片(包括非圓形基片)的一次曝光。
  2. 結(jié)構(gòu)**
  本設(shè)備配置有可實現(xiàn)真空硬接觸、軟接觸、微力接觸的真空密著機構(gòu)；具有真空掩膜版架、真空片吸盤。
  3. 操作簡便
  本設(shè)備操作簡單，調(diào)試、維護、修理等都非常簡便。
  4. 設(shè)備運行穩(wěn)定、可靠
  采用進口電磁閥、按鈕、定時器；采用獨特的氣動系統(tǒng)、真空管路系統(tǒng)和精密的機械零件，使本機具有非常高的可靠性。
  5. 特設(shè)功能
  除標(biāo)準(zhǔn)承片臺外，還可以為用戶定制專用承片臺，來解決非圓形基片、碎片和底面不平的基片造成的版片分離不開所引起的版片無法對準(zhǔn)的問題

主要技術(shù)參數(shù)：

1、操作方式：手動。

2、曝光模式：接觸式曝光。

3、曝光面積曝光面積：150mm×150mm。

4、紫外光源：g線（436nm）和i線（365nm）

5、實現(xiàn)“真空密著”曝光，但基片厚度≤2mm。

6、分辨率：Φ100mm范圍內(nèi)≤2um

7、照明不均勻性： ±3%（ Φ100mm范圍）；±5%（ Φ150mm范圍）；

8、曝光光源：350W汞燈（進口）；

9、曝光強度：≤20mW/ cm2

10、光源平行性：≤3.5°；

11、樣品尺寸：Φ150mm。