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G-43D6型高精密單面光刻機(jī)

G-43D6型高精密單面光刻機(jī) 產(chǎn)品介紹:設(shè)備概述: 本設(shè)備是我公司根據(jù)市場(chǎng)需求研發(fā)的產(chǎn)品,可以光刻Φ6&quo…

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G-43D6型高精密單面光刻機(jī)


設(shè)備概述:

本設(shè)備是我公司根據(jù)市場(chǎng)需求研發(fā)的產(chǎn)品,可以光刻Φ6"以下基片,對(duì)被光刻基片的外形、厚度要求較低,可對(duì)多種材料的基片進(jìn)行光刻。它特別適用進(jìn)行一次光刻的產(chǎn)品,可制作聲表面器件、可控硅、小液晶顯示器、傳感器、二極管、園光柵、編碼盤等。按用戶要求可提供圓形承片臺(tái)或方形承片臺(tái),不管哪一種承片臺(tái),都能實(shí)現(xiàn)“真空密著”曝光,加之光均勻性好,所以大大提高光刻質(zhì)量。

G-43部件圖

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曝光頭及部件圖

主要構(gòu)成主要由防震工作臺(tái)、高均勻性6"LED專用曝光頭、氣動(dòng)系統(tǒng)、電氣控制系統(tǒng)、真空管路系統(tǒng)、直聯(lián)式真空泵及附件箱等組成。

主要功能特點(diǎn)

1.適用范圍廣
      適用于Φ6"以下,厚度5mm以下的各種基片(包括非圓形基片)的一次曝光。
      2.結(jié)構(gòu)**
     本設(shè)備配置有可實(shí)現(xiàn)真空硬接觸、軟接觸、微力接觸的真空密著機(jī)構(gòu);具有真空掩膜版架、真空片吸盤。
      3.操作簡(jiǎn)便
     本設(shè)備操作簡(jiǎn)單,調(diào)試、維護(hù)、修理等都非常簡(jiǎn)便。
     4.設(shè)備運(yùn)行穩(wěn)定、可靠
     采用進(jìn)口電磁閥、按鈕、定時(shí)器;采用獨(dú)特的氣動(dòng)系統(tǒng)、真空管路系統(tǒng)和精密的機(jī)械零件,使本機(jī)具有非常高的可靠性。
     5.特設(shè)功能
     除標(biāo)準(zhǔn)承片臺(tái)外,還可以為用戶定制專用承片臺(tái),來(lái)解決非圓形基片、碎片和底面不平的基片造成的版片分離不開所引起的版片無(wú)法對(duì)準(zhǔn)的問(wèn)題


主要技術(shù)參數(shù):

1、操作方式:手動(dòng)。

2、曝光模式:接觸式曝光。

3、曝光面積:Φ6",配置6"LED專用曝光頭,紫外光源壽命≥2萬(wàn)小時(shí)

4、紫外光源:365nm。

5、實(shí)現(xiàn)“真空密著”曝光,但基片厚度≤2mm。

6、分辨率:2um

7、光的不均勻性:≤±3.5%;

8.樣品尺寸:Φ150mm。

9、曝光強(qiáng)度:0~30mw/cm2可調(diào)(此指標(biāo)用紫外光源I線365nm測(cè)量)



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